尹志尧：引领中国刻蚀机走向世界领先的传奇人物

2025年初，中国在多个领域展现强劲实力，“屠榜”现象频出。在文娱领域，《哪吒2》票房增长迅猛；在AI领域，DeepSeek崭露头角，震动硅谷。而在半导体行业，尹志尧和他的中微半导体同样成绩斐然。

尹志尧，这位“中国刻蚀机之父”，有着非凡的经历。创业前，他是学霸，从中国科技大学毕业后留学美国，获物理化学博士学位，在硅谷工作16年。然而，为了回报祖国，他毅然回国。

回国之路充满坎坷。美国政府的阻挠、资金的短缺，都未能阻挡他的脚步。他凭借坚定信念和不懈努力，成功研发出先进离子蚀刻设备，中国大陆第一台双反应台除胶刻蚀一体机问世，工作效率比海外友商高出约30%。

面对美国企业的专利诉讼，尹志尧和团队早有准备，避开现有专利，降低供应链风险，在无数次诉讼中从未败诉，还让对手支付赔偿金。

在企业管理上，尹志尧行事风格独特。他制定高标准，要求每步合格率达99.99%，带领团队攻克技术难题，如甚高频耦合反应离子刻蚀技术。同时，他推出“全员持股计划”，让员工成为合伙人，中微公司上市后诞生众多富翁。

如今，中微半导体在尹志尧带领下不断突破。刻蚀机准确度达0.02纳米，超越全球三大刻蚀巨头；提出“皮米级”加工精度概念，刻蚀精度达100皮米以下。中微公司CCP刻蚀设备国内市场份额大幅提升，成为全球排名第四的刻蚀机企业。

尹志尧始终保持清醒与谦卑，深知与世界先进水平仍有差距，强调“芯片行业，技术为王”。他的坚持与奋斗，为中国半导体产业发展注入强大动力，助力中国从跟跑走向并跑、领跑，重新定义行业规则。